2015年5月11至12日，由清华大学举办，中国科学院物理研究所、北京大学、中国物理学会、中国电子学会、中国材料研究会协办的2015年IEEE国际磁学大会在北京国家会议中心举办。IEEE磁学协会北京分会主席、IEEE会士、清华大学电机工程与应用电子技术系何金良教授担任大会主席，大会共同主席为希捷科技高凯中博士，大会荣誉主席为中国科学院物理研究所王鼎胜院士。清华大学材料系韦丹教授为出版委员会共同主席，中国科学院物理研究所韩秀峰教授为程序委员会共同主席，材料系章晓中教授、中国科学院物理研究所成昭华教授以及中国科学院半导体研究所姬扬教授为组委会共同主席，清华大学电机系曾嵘教授为共同财务主席。会议聘请了全球80名著名专家、学者为程序委员会委员。会议共收到投稿2538篇，经过严格评审，录取1758篇，拒稿率达到31%，另外还有80个邀请报告。来自44个国家和地区的1700多位专家、学者及工程技术人员与会。投稿论文数和与会人数都创IEEE国际磁学大会的历史新高。

本届国际磁学大会主题为磁学基础及工程应用。会议共设立10个议题，包括磁记录，自旋电子学，软磁材料，永磁材料，磁性薄膜和纳米结构，非磁记录领域的功能磁材料，模拟和计算磁学，磁性表征，传感器、高频和能源器件，及生命科学应用。大会组织了一个专题讲座会和一个晚间专题报告会，8个专题sumposium，60个oral Sessions和72个poster sessions，邀请了全球183位著名学者为专题报告会主席。本届专题讲座会的主题为拓扑绝缘体，报告人包括清华大学副校长薛其坤院士、美国宾州州立大学N-萨马思教授、加州大学洛杉矶分校K. L. 王教授分别从拓扑绝缘材料、理论与概念、潜在装置与应用这三个方面全面介绍了拓扑绝缘材料。晚间专题报告会的主题为数据存储技术的现在与未来，报告人包括希捷科技有限公司资深副总裁兼首席技术官马克-雷博士、昱科环球存储公司（HGST）资深副总裁兼首席技术官斯蒂芬？坎贝尔、东芝公司高级研究员田中一郎。会议期间，包括希捷科技、昱科环球存储公司（HGST）、三星电子、美题隆、希磁科技、合肥科晶、多维科技、睿宁材料、惠州付氏高科在内的30多家企业进行了技术展示和交流，展示了磁性材料及磁应用领域的最新研究成果及产品。

何金良教授主持了本届国际磁学大会的大会特稿报告会，北京大学原校长、中国科学院副院长王恩哥院士做了题为 “低维量子结构的自组装”的大会特邀报告。特邀报告会前IEEE磁学协会举行了颁奖典礼，美国阿拉巴马大学信息技术材料研究中心主任铃木高雄教授获得了2015年度IEEE磁学协会成就奖。

IEEE磁学协会是应用磁学领域最为著名的国际组织，其范围涉及磁性材料及器件的基础研究、开发、设计和应用的所有问题，在世界范围内有36个分会。国际磁学大会在国际电机电子工程师协会(IEEE)每年举办的数千个国际会议中排名前五，是对相关工业和学术界有最重要影响的顶级旗舰会议。国际磁学大会已经举办52年，对以磁学为核心运行机制的磁记忆、磁储存、磁传感器等高科技工业有直接的学术督导和推动作用，国际磁学领域重大成果及产品都首先通过该会议发布。IEEE磁学分会支持的现有工业的市场每年过1000亿美元，其中硬盘工业占400亿美元，并同步发展许多新兴市场和高科技产品。国际磁学大会是少有的同时在某一领域对学术界和工业界都有巨大影响力的会议，如巨磁阻效应方面的研究成果2007年被授予诺贝尔奖。通过激烈竞争，以IEEE磁学协会北京分会为基础，我校材料系韦丹教授作为申办委员会主席的团队为中国北京争取到了2015年国际磁学大会的举办权。

另外，5月14日下午2点，国务院副总理刘延东在中南海紫光阁会见了本届国际磁学大会的部分代表。会见中，刘延东副总理对2015年国际磁学大会在北京的成功举办表示祝贺，希望与会学者和世界知名高科技企业进一步加大与中国院校、科研院所和企业之间的交流合作。

大会主席何金良教授在特邀报告上致辞

大会共同主席、希捷科技高凯中博士在特邀报告上致辞

中国科学院副院长王恩哥院士做大会特邀报告

大会主席何金良教授向大会特邀报告人王恩哥院士授予证书

大会特邀报告会会场